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大宗特气供气系统介绍

大宗特气供气系统主要针对大规模量产的8-12英寸（1英寸=25.4毫米） 超大规模集成电路厂（气体种类包括SiH4、N2O、2、 C2F6、 NH3等），100MW以上的太阳能电池生产线（气体种类包括NH3），发光二极管的磊晶工序线（气体种类包括NH3）、5代以上液晶显示器工厂（气体种类包括4、3、NF3）、光纤（气体种类包括SiCl4）、硅材料外延生产线（气体种类包括HCL）等行业。它们的投资规模巨大，采用1先进的工艺制程设备，用气需求量大，对稳定和不间断供应、纯度控制和安全生产提出严格的要求。在测定放1射性物质时,使用的混合气有下列几种组成:含异丁烷0。

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试验室供气需求

目前大多数试验室中的各种分析仪器如气相色谱仪、气相色谱质谱仪、液相色谱质谱仪、原子吸收分光光度计、原子荧光光度计、等离子发射光谱仪、电感耦合等离子质谱仪等都需要连续使用高纯载气和燃气，因此试验室的安全、连续、稳定运行需要我们考虑如何将这些气体供到各试验室中放置的分析仪器。高纯气体的输送管路系统随着微电子工业的发展，超大规模集成电路制造的硅片尺寸越做越大，要求半导体制造工艺中的气体品质相应越来越高，对气体中杂质和露1点要求极为严格，需要达到ppb、ppt级，尘埃粒径求控制小于0。

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试验室集中供气系统的优点

针对过去使用中存在的问题，现代试验室对载气的使用环境进行了改革，即 “集中供气系统”，即将使用气体（以下简称载气）集中贮存，然后通过压差的原理将气体经过金属或其他材质管路送至用气点。其优点主要有以下几点：

1、首先解决气瓶的放置问题。所有气体管路都是高质量的、完全退火、无缝不锈钢SS-316L。气瓶间的位置如果可能尽量位于与试验室相对独立的房间，如果与试验室在同一大楼内，则气瓶间的位置要尽量位于人1流较少并且独立的房间，这种方式可使气瓶与工作人员及仪器完全隔离，即使有害气体有泄漏，也不会发生直接伤害。

2、其次气体混合的问题。将所有载气气瓶根据气体性质分别集中在一个气瓶间中与助燃气体分开存贮。

3、再次是解决气瓶压力的问题。标准气体应用范围很广,在化工、石油冶金、机械、航天、电子、陶瓷、汽车、光纤、激光、潜水、环保、切割、焊接、食品加工等工业部门均使用大量的常用气体和特种气体。每种气体可以将多瓶气体并联然后通过一个出口统一减压后运送气体至使用点。因为气瓶间是相对独立的，整个气路系统压力1大的地方也是气瓶出口处，因此这种方式将气瓶压力可能发生的危险缩小至气瓶间内，可对人体及仪器的伤害可降到1低。

氦质谱检漏仪

随着科技的迅猛发展，氦质谱检漏仪及其应用技术也在不断发展和究善。（1）特气柜又分为全自动特气柜与半自动特气柜，每种气柜的维护方法有一定的区别。各国的设备厂商相继推出了多种类烈的氦质谱检漏仪，广泛应用丁航空航天，电力电子，汽车等各个行业，综观1新氦质谱检漏仪的性能特点发现，氦质谱检漏仪正向着高灵敏度、自动化、宽程、等先进方向发展，这些特点很好地满足了当前检漏应用的需求，也极大地1推动了氮质谱检漏技术的不断发展。